与行政撤销程序相呼应，人民法院在《集成电路布图设计保护条例》实施以来审理了一批具有规则建构意义的布图设计纠纷案件。最高人民法院通过年度十大知识产权案件、指导性案例、典型案例和裁判要旨摘要等多种形式持续发布布图设计典型案例，各地法院亦将有影响的布图设计案件纳入年度典型案例，逐步形成覆盖登记性质、保护范围、独创性判断、侵权比对与责任承担全链条的裁判规则体系。

1、集成电路布图设计专有权侵权判定法律实践凝练

在最高人民法院层面，2024年2月22日，最高人民法院知识产权法庭发布成立五周年十大影响力案件和100件典型案例，系从法庭成立五年来审结的15710件技术类知识产权和垄断案件中评选产生[1]。其中，“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案（苏州赛芯电子科技公司诉深圳裕昇科技公司等，（2019）最高法知民终490号）入选100件典型案例（第22号），系其中唯一的布图设计案件。该案系最高人民法院受理的首例侵害集成电路布图设计专有权纠纷二审案件，此前已入选2020年中国法院10大知识产权案件[2]，并于2023年12月15日经最高人民法院审判委员会讨论通过，升格为指导性案例218号[3]。该案确立了三项裁判要点：其一，布图设计登记的目的在于确定保护对象而非公开设计内容，公开布图设计内容并非取得专有权的条件；其二，专有权的保护范围一般根据申请登记时提交的复制件或者图样确定，无法识别的内容可以依据与复制件或者图样具有一致性的样品确定；其三，取得登记并不当然意味着登记内容具有独创性，权利人仍应当对其主张权利的布图设计的独创性作出合理解释或者说明。上述规则已被本次修订吸收：新《集成电路布图设计保护条例》第三十四条以登记复制件或者图样为保护范围基准、独创性声明用于解释独创性的规定，正是该案裁判要点的立法固化。

在最高人民法院历年发布的年度典型案例中，布图设计案件亦屡有入选。2010年中国法院知识产权司法保护10大案件第7件“LED照明用集成电路布图设计案”（华润矽威公司诉南京源之峰公司，南京市中级人民法院（2009）宁民三初字第435号）系全国首例通过民事判决保护布图设计专有权的案件：被告通过对权利人PT4115芯片进行反向剖析形成布图设计并提供给他人商业利用，法院认定其复制了涉案布图设计的全部，构成侵权，判决赔偿经济损失及合理费用共计23万余元，双方均未上诉[4]。2014年中国法院10大知识产权案件第5件“集成电路布图设计专有权侵权认定纠纷案”（钜泉光电公司诉锐能微公司、雅创电子公司，上海一中院（2010）沪一中民五（知）初字第51号、上海高院（2014）沪高民三（知）终字第12号）中，权利人主张的10个独创点经鉴定仅2个具有独创性，法院认为该2个独创点虽系辅助功能且占整个布图设计面积不足1%，被诉侵权芯片予以复制仍构成侵权，判决赔偿320万元[5]，该案确立了“独创性部分占比小不影响侵权成立”的重要规则。2025年1月6日发布的人民法院保护科技创新典型案例中，案例三“线性锂电池充电器”侵害集成电路布图设计专有权案（（2022）最高法知民终565号）进一步明确了芯片封装企业的责任认定规则：芯片在封装前后属于彼此独立的上下游产品，封装企业完成封装属于对上游产品的商业利用，不能当然认定其知道布图设计的权利状况；但权利人针对善意商业利用行为人提起诉讼的，应当视为发送侵权通知，该行为人自收到起诉状之日起应当向权利人支付合理报酬[6]。

此外，《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》专设“集成电路布图设计案件”一节[7]。第99条（（2022）最高法知民终1645号，涉“锂电池保护芯片”布图设计侵权案之二）明确，权利人可以在不同案件中针对不同侵权行为就不同的独创性部分主张权利，但独创性部分不应是个别元件或者个别连接，而应是具有相对独立电子功能、边界相对清晰可划分的独立模块；第100条重申了“线性锂电池充电器”案确立的芯片封装企业责任规则；第101条（（2022）最高法知民终1596号，“车载单元射频收发器芯片”布图设计侵权案）明确了同一芯片产品上多种知识产权并存时不同知识产权对产品利润贡献率的确定方法。在程序规则方面，（2024）最高法知民复3号涉“射频芯片”布图设计侵权行为保全复议案（裁判要旨第143条）明确，判断不可弥补的损害时可以考虑市场抢占、价格侵蚀等通常难以通过赔偿经济损失得到完全弥补的损害；（2021）最高法知民终1313号案则确立了行政撤销与民事诉讼的衔接规则——涉案布图设计专有权被国家知识产权局撤销后，人民法院裁定驳回权利人的起诉，权利人可待撤销决定被生效判决撤销后另行起诉。

《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2025）》亦专设“集成电路布图设计案件”一节[8]。第99条（（2025）最高法知民终452号，“射频芯片”集成电路布图设计侵权案）明确了首次商用超期抗辩的审理规则：被诉侵权人主张涉案布图设计不符合法定条件的，人民法院可就该布图设计是否具备权利基础、是否应在侵权诉讼中获得保护依法进行审查；依据在案证据可以认定涉案布图设计申请登记时间已超过首次商业利用时间两年以上、不符合《集成电路布图设计保护条例》第十七条规定的登记条件的，人民法院不予保护。该案中，涉案布图设计的首次商业利用时间被认定为2017年，而申请登记时间为2022年，远超两年期限；法院同时指出，权利人作为布图设计权利人和芯片委托方，理应掌握其销售芯片的编码规则，却未能就其主张的“丝印被篡改”提供任何证据。第100条（（2023）最高法知民终645号，涉“USB转接芯片”软件著作权及集成电路布图设计侵权案）明确了布图设计首次商业利用时间的审查方法：若布图设计登记信息与芯片的销售型号、硬件版本等无法直接对应，且难以通过功能、封装等外部特征确认芯片所采用的布图设计即为登记的布图设计的，应当通过布图设计内容比对确认芯片所载布图设计与登记布图设计是否相同，两者相同的，才能依据该芯片投入商业利用的时间认定登记布图设计的首次商业利用时间。第101条（（2025）最高法知行终38号，涉“USB转接芯片”集成电路布图设计确权案）则明确了布图设计民行交叉案件中新证据的考量规则：在布图设计撤销行政纠纷案件审理中，出现关联民事侵权案件生效裁判已基于相同证据对该布图设计是否符合法定登记条件作出明确认定的新证据的，人民法院原则上应当在行政诉讼中采纳该新证据和该生效裁判的相关认定。上述三条裁判要旨围绕“首次商业利用时间”这一法定登记条件，构建起从民事侵权抗辩、事实认定方法到民行交叉证据衔接的完整规则链：一方面，人民法院在侵权诉讼中可以对布图设计的权利基础进行适度审查，首次商用超期抗辩不再以先行启动行政撤销程序为前提；另一方面，民事生效裁判对登记条件的认定又反向进入行政诉讼的证据体系，行政确权与民事保护的衔接由此更加紧密。这一规则取向与新《集成电路布图设计保护条例》将不符合商业利用后两年登记时限列为撤销法定事由、强化登记条件审查的制度安排一脉相承，对布图设计权利人的登记时机管理提出了更高要求。

上述司法典型案例的概况如下表所示。

表1 集成电路布图设计司法典型案例综述表

总体来看，集成电路布图设计司法实践与行政撤销实践呈现出规则互哺的格局：一方面，“锂电池保护芯片”案、“线性锂电池充电器”案等案件确立的保护范围确定、独创性说明、封装企业责任等规则，为本次条例和细则修订所吸收；另一方面，行政撤销程序中对独创性、商业利用的认定标准也通过司法审查得到检验与校准，指导性案例218号与裁判要旨摘要的持续发布，为布图设计登记、维权与抗辩提供了日益清晰的规则预期。可以预见，随着新修订条例及其实施细则的施行，行政确权与司法保护两个程序之间的衔接与互动将更加紧密。

通过上述介绍可以看出，新修订的《集成电路布图设计保护条例》、《集成电路布图设计保护条例实施细则》和《集成电路布图设计审查与行政裁决指南》实施之后，布图设计申请、维权、抗辩规则更加清晰。芯片企业无论是作为布图设计权利人，还是作为被控侵权主体，都应当在登记、取证、行政撤销、民事诉讼各个环节做好风险管控。

2、站在布图设计权利人角度的法律实践建议

第一，高质量撰写布图设计登记材料，夯实权利基础。独创性声明是权利基石，应当严格按照新《集成电路布图设计保护条例》二十四条，清晰指明每一项独创性部分对应的图样区域、元件构成、互连关系、实现功能。避免只写抽象功能描述，不写版图三维配置；区分电路功能思想和实际布图版图。提交的芯片样品必须与登记图样保持一致，在登记图样图层细节模糊时，备案样品剖片将成为解释版图细节的重要依据，应当妥善留存样品。

第二，撤销程序审慎行使放弃独创性部分的处分权。当遭遇第三方提起撤销请求，权利人可以依据《集成电路布图设计保护条例实施细则》三十一条，主动放弃稳定性存疑的独创性部分，保全其余部分效力；但不能新增、改写独创性主张。处分前需要充分评估：放弃某一模块，是否会直接削弱后续民事诉讼中的保护基础，权衡行政程序的稳定性与民事维权价值。

第三，维权阶段重视实物证据固定，善用举证妨碍规则。维权应当优先公证购买获取被控侵权芯片实物，必要时申请法院委托专业机构做芯片剖片司法鉴定，比对布图三维配置。侵权规模证据方面，注意保存公开招投标、企业年报、宣传报告等公开线索；诉讼中及时申请法院责令被控侵权人提交账簿、出货原始凭证。一旦对方无正当理由拒不提交，主张适用举证妨碍推定侵权数量。

第四，把握惩罚性赔偿的诉讼时机，合理确定贡献率。惩罚性赔偿请求务必在一审法庭辩论终结前明确提出，同时提交证明对方“故意侵权、情节严重”的证据，例如接触过权利布图、反向工程复制、大规模恶意实施侵权等证据。对于产品上同时存在专利、布图设计、技术秘密等多项知识产权，提前做好各知识产权对产品利润的贡献率测算，不要在二审临时变更贡献率主张，避免法院不予采纳。

3、站在布图设计实施者角度角度的实践建议

第一，利用撤销程序挑战权利稳定性，区分不同类型对比证据效力。如果认为涉案布图设计存在授权瑕疵，应当向国家知识产权局正式提交撤销请求，而不是仅在民事诉讼中口头抗辩布图无效。搜集证据时应当重点检索布图设计领域教科书、版图手册、通用版图模块；注意：普通期刊论文、专利电路原理图仅公开电路原理，证明力有限，很难直接否定布图设计独创性，不能仅提交原理图类证据即期待撤销布图设计专有权。

第二，精细化抗辩保护范围，针对独创性声明、登记图样提出质疑。可以从客体角度抗辩：主张权利人独创性部分仅仅是抽象功能规划，没有对应登记图样中清晰可划分的三维版图，不属于布图设计保护客体；重点比对登记图样，而非仅仅针对权利人文字版独创性说明。同时可以申请鉴定人出庭，对鉴定报告中剖片还原、比对方法、实质性相同结论进行质证。同时，注意核查布图设计保护期，厘清侵权责任边界。布图设计保护期10年，自登记申请日、首次商业利用日取较早者起算；无论是否登记，创作完成满15年不再受保护。自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。被控侵权方应当核查权利布图设计保护期限，对于保护期届满之后的实施行为，不构成侵权。同时关注行政撤销进展，一旦布图设计被撤销，专有权视为自始不存在，可以作为重要抗辩依据。

第三，审慎评估合法来源抗辩成立的可能性，重视主观注意义务。合法来源抗辩成立的两个要件：客观完整合法交易链条（采购合同、发票、物流单据）；主观上不知道、也没有合理理由应当知道芯片布图侵权。对于芯片系统集成商，行业经验越丰富，司法实践中施加的注意义务越高；如果交易对象是成立时间很短、缺乏芯片设计生产能力的小微企业，法院很可能认定应当产生合理怀疑，合法来源抗辩存在较大败诉风险。不能简单寄希望于合法来源抗辩以免除全部责任。

第四，妥善保管财务、生产、采购凭证，规避举证妨碍风险。企业应当完整留存账簿、芯片采购记录、OBU出货台账、订单凭证。诉讼中法院责令提交相关资料时，不能简单以随产随销、没有记账为由拒绝提交；如果确实部分资料灭失，应当提交客观证据证明资料灭失的客观原因，避免被法院推定侵权数量成立，引发高额赔偿。

综上所述，即将全面实施的新修订《集成电路布图设计保护条例》、《集成电路布图设计保护条例实施细则》和《集成电路布图设计审查与行政裁决指南》，搭建起我国集成电路布图设计“登记审查——撤销程序——侵权救济”完整制度体系。对于芯片产业，布图设计保护不仅关乎诉讼胜负，也倒逼企业在芯片研发阶段做好布图登记布局；无论是权利人还是被控侵权主体，都需要兼顾行政程序的权利稳定性评价和民事诉讼的证据规则，实现集成电路领域知识产权保护与产业创新之间的利益平衡。

[注]

[1] 参见最高人民法院知识产权法庭：《最高人民法院知识产权法庭成立五周年十大影响力案件和100件典型案例》（2024年2月22日发布）【EB/OL】，https://ipc.court.gov.cn/zh-cn/news/view-5301.html（2026年10月4日最后访问）。

[2] 参见最高人民法院办公厅：《关于印发2020年中国法院10大知识产权案件和50件典型知识产权案例的通知》（法办〔2021〕146号）【EB/OL】，https://mp.weixin.qq.com/s/dJz3ebiw0WVwkHcmTzaulw（2026年10月4日最后访问）。

[3] 参见最高人民法院：《指导性案例218号：苏州赛某电子科技有限公司诉深圳裕某科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案》（2023年12月15日发布）【EB/OL】，http://jzhs.lncourt.gov.cn/article/detail/2024/06/id/8003514.shtml（2026年10月4日最后访问）。

[4] 参见《2010年中国法院知识产权司法保护10大案件和50件典型案例》【EB/OL】，https://www.cpahkltd.com/show-1252.html（2026年10月4日最后访问）。

[5] 参见最高人民法院办公厅：《关于印发2014年中国法院10大知识产权案件、10大创新性知识产权案件和50件典型知识产权案例的通知》（法办〔2015〕55号）【EB/OL】，https://jy.lsfy.gov.cn/splc/sfwj/2024-05-10/24409.html（2026年10月4日最后访问）。

[6] 参见最高人民法院：《人民法院保护科技创新典型案例》（2025年1月6日发布）【EB/OL】，http://qdhsfy.sdcourt.gov.cn/lylsfy/393876/tszs5176/44449059/index.html（2026年10月4日最后访问）。

[7] 参见最高人民法院知识产权法庭：《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》（2025年4月25日发布）【EB/OL】，https://ipc.court.gov.cn/zh-cn/news/view-4234.html（2026年10月4日最后访问）。

[8] 参见最高人民法院知识产权法庭：《最高人民法院知识产权法庭裁判要旨摘要（2024）》（2026年4月22日发布）【EB/OL】，https://www.court.gov.cn/zixun/xiangqing/498161.html （2026年10月4日最后访问）。