在芯片产业的发展中，集成电路布图设计（以下称“布图设计”）作为研发的重要成果，是芯片功能实现和性能优化的核心载体。我国目前对布图设计的保护规定主要见于《集成电路布图设计保护条例》（以下称“《条例》”）和《集成电路布图设计保护条例实施细则》（以下称“《实施细则》”）。特别说明，根据《条例》，集成电路是指半导体集成电路，即多个元件集成在半导体材料的基片以执行某种电子功能的产品。本文中集成电路与芯片具有相同含义。

一、布图设计专有权实行登记保护原则，保护范围由登记材料确定

我国布图设计专有权实行登记保护主义。《条例》第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。《条例》第十六条、《实施细则》第十四条进一步规定申请人在登记时向管理部门提交的布图设计材料主要有：（1）应当提交布图设计放大20倍的复制件或者图样的纸件；（2）可以提供包含布图设计全部信息的复制件或者图样的电子版本；（3）已投入商业利用的应当提供集成电路样品。

社会公众可以申请查阅已登记的布图设计基本信息。在登记完成后，国家知识产权局会在其官方网站和中国知识产权报上对布图设计专有权的名称、权利人、创作人、完成日等基本信息进行公告。社会公众可以通过书面方式向国家知识产权局申请现场查阅布图设计的复制件或者图样的纸件。在涉及侵权诉讼或者行政处理程序时，相关人员还可请求查阅或复制布图设计的复制件或者图样的电子版本。

布图设计专有权的保护并不以权利人公开布图设计的全部信息为条件。如前所述，权利人在登记时必须提交的材料仅包括放大20倍的复制件或图样的纸件。对于目前集成电路的飞速发展而言，即使放大20倍也仍然存在复制件或者图样的纸件放大倍数无法完整、清晰地反映布图设计内容的情况。而在不涉及侵权或行政纠纷时，一般社会公众也不能申请查阅或复制包含有完整信息的布图设计电子版本。可见，我国对于布图设计专有权的登记规定中并未要求相关技术信息对公众无条件全部公开。

布图设计专有权保护范围的确定一般以登记时提交的纸件的复制件或图样为主，辅以芯片样品和电子版本的复制件或图样信息。在最高法指导性案例218号苏州赛某电子科技有限公司诉深圳裕某科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案中，最高人民法院确立了认定布图设计的保护范围的基本原则——一般应根据复制件或图样的纸件进行[1]，在复制件或图样纸件无法完整清晰地反映布图设计内容的情况下，若登记样品与纸件信息一致的，可以通过技术手段还原出样品中包含的布图设计详细信息，提取其中的三维配置信息，用以确定布图设计专有权的保护范围。

二、具有独创性是布图设计受保护的前提

受保护的布图设计应具有独创性，且应可相对独立地执行某种功能。取得布图设计登记，并不当然意味着登记的布图设计内容具有独创性。《条例》第四条规定，独创性的含义为该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。根据《条例》第二条之定义，集成电路是执行某种电子功能的中间产品或者最终产品，而布图设计是指集成电路中至少包含一个有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。可见，权利人主张具有独创性的布图设计应当具备一定的功能性，可以相对独立地执行某种功能。

独创性可以体现在布图设计任何具有独创性的部分中，也可以体现在布图设计整体中。布图设计中任何具有独创性的部分均受法律保护，因此，权利人既可以主张其中的任何部分具有独创性，也可以主张布图设计整体具有独创性。权利人在主张部分布图设计具有独创性时，无需考虑其在整体设计中是否属于主要部分，以及该部分是否能够实现整体设计的核心性能[2]。但是需要注意的是，在权利人主张部分布图设计专有权时，该“部分”仍应当是具有某种相对独立的电子功能，并且具有独创性，而非仅是个别元件或者个别连接的组合配置。如果一项布图设计的任意部分均无独创性而是均由公认的常规设计组合而成，那么权利人也可主张布图设计的整体组合具有独创性。

独创性的证明责任应当由权利人首先进行主张，被诉侵权人可对布图设计的独创性提出异议。在司法实践中，权利人应对其主张权利的布图设计属于适格主体且具有独创性作出合理解释或者说明。具体而言，权利人应当说明其主张的布图设计是具有一定功能的集成电路三维配置，且其是由权利人独立创作而非公认的常规设计。权利人主张布图设计部分内容具有独创性的，应当明确其主张的独创点所对应的布图设计具体区域内容。当权利人完成独创性的初步证明后，反驳独创性的举证责任则转移给被诉侵权人。被诉侵权人需举证证明该布图设计并非权利人的智力劳动成果，或证明其属于公认的常规设计。若被诉侵权人反驳不成立，则应认定该布图设计具有独创性。

包括被诉侵权人在内的社会公众可以主动向国家知识产权局提出撤销已登记的布图设计的意见。目前我国并未规定社会公众直接申请撤销已登记的布图设计专有权的权利，撤销程序均由国务院知识产权行政部门依职权启动。但是根据国家知识产权局公布的《集成电路布图设计审查与执法指南（试行）》第二部分第3章“撤销程序”中的规定，任何单位和个人认为已登记的布图设计存在包括不具有独创性在内的撤销事由的，均可以向复审和无效审理部提出撤销意见，并由复审和无效审理部审查后决定是否启动撤销程序。若在侵权诉讼纠纷中涉案布图设计专有权被撤销的，人民法院可以裁定驳回起诉[3]。

三、布图设计的侵权判定标准

我国布图设计专有权主要针对未经允许的复制行为以及商业利用行为。《条例》第三十条第一款规定，除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：（一）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；（二）为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

对于受保护的布图设计中任何具有独创性的内容的复制行为均可构成侵权，而无需考虑其在整体布图设计中的占比如何。上海市高级人民法院在钜泉光电科技诉上海雅创电子零件有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案中认为，受保护的布图设计中任何具有独创性的部分均受法律保护，而不论其在整个布图设计中的大小或者所起的作用。整体布图设计的相似程度只有在权利人主张整体布图设计侵权的情况下才需要考虑[4]。在泉芯电子技术（深圳）有限公司等和深圳市锦汇鑫科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案件中，最高人民法院同样明确了布图设计权利人既可以选择全部具有独创性的部分作为专有权的权利基础，亦可以选择其中部分具有独创性的部分作为权利基础[5]。

布图设计的侵权认定采取相同或实质相同标准。由于只要被诉侵权芯片与权利人主张的任何一部分的布图设计构成实质相同就构成布图设计专有权侵权，在认定实质相同时法院采用了较为严格的标准，即只有在被诉侵权集成电路与受保护集成电路中的全部或者部分布图设计极为相似的情形下，才认定构成实质性相同。但另一方面，法院不要求布图设计相似度需达到100%，在大部分布图设计相同且可结合其他证据综合认定的情况下，也可认定侵权行为成立[6]。而如果被诉设计与权利设计相比的不同之处均属于常规设计，也可认定二者实质相同。

四、合法的反向工程可作为不侵犯布图设计专有权的抗辩

我国的法律规定将反向工程这一行为本身作为布图设计专有权复制侵权的一种例外。《条例》第二十三条第一项规定了复制布图设计而不构成侵权的例外情况，为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。可见，《条例》将因个人或研究等目的而复制布图设计的行为予以侵权豁免，通过合法的反向工程复制布图设计的行为本身不构成《条例》第三十条所规定的复制侵权行为。

布图设计专有权的反向工程抗辩，其具体内涵与商业秘密中的反向工程抗辩构成要件相似。正如本系列商业秘密篇中所述，布图设计反向工程同样要求通过合理的反向工程手段获得布图设计，并且反向工程的实施人不得接触过原布图设计的信息。例如上海市高级人民法院在钜泉光电科技诉上海雅创电子零件有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案中认定，被告接触了原告涉案布图设计，而非通过反向工程获得，因此不能适用反向工程抗辩[7]。

对通过反向工程获取的布图设计需创造出具有独创性的新布图设计才可进行商业利用。与商业秘密不同的是，虽然《条例》规定了反向工程复制行为本身不构成侵权，但只有在此基础上创造出新的布图设计且满足独创性要求下才能进行商业化利用。《条例》第二十三条第二项规定，在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。可见，单纯的反向工程复制行为虽不侵权，但只有在衍生出新的独创性成果后，才能在商业化利用层面受到法律保护。

五、芯片企业开展反向工程的合规建议

纵观本系列前文关于商业秘密的讨论及本篇内容，我们认为，芯片企业在开展反向工程时需要在创新探索与法律风险之间保持谨慎平衡。反向工程行为在我国法律框架下被允许在一定条件下合法开展，但其合规性往往取决于产品来源是否合法、操作流程是否规范、研发人员是否保持独立性，以及后续成果是否具备独创性等。若企业在上述环节存在漏洞，则不仅可能失去反向工程抗辩的合法性基础，还可能面临商业秘密侵权或布图设计专有权侵权的风险。为此，企业在实施前应做好知识产权状况评估，并在以下几个方面采取合规措施：

(一) 对目标技术信息的权利保护状况进行评估确认

芯片企业在实施反向工程前，应当首先对目标技术信息的权利保护状况进行全面评估，确认潜在的知识产权风险，并制定相应的法律应对方案。具体而言，企业可通过公开检索、技术调查等方式，了解目标技术是否涉及已登记的布图设计专有权，或者是否构成他人的商业秘密，从而进行有效的风险识别和预防，对不同的权利保护状况采取有针对性的应对措施。

(二) 通过合法途径取得反向工程对象产品

合法取得反向工程对象的产品是合规开展反向工程的前提条件。芯片企业应确保从公开渠道购买或受赠的产品可用于拆解、测绘等反向工程行为。若企业通过盗窃、欺诈、泄密等不正当手段获得产品，即使后续的反向工程在技术上合乎规范，也会因取得方式违法而无法成立反向工程抗辩。为降低风险，企业应当保存完备的来源凭证，包括采购合同、发票、交付清单或赠与协议等，并在内部建立产品来源审核制度，对样品获取环节进行合规管理。

(三) 确保反向工程操作手段和流程合规

反向工程要求严格的操作合规性。芯片企业在合法获得产品后对其进行的拆解、测绘、分析等技术操作应符合反向工程的合法性要求，确保相关技术信息是通过技术分析得来的，而非借助其他非法途径获取。同时，企业在操作中应重点确保对相关流程及操作过程建立完整的记录，包括实验数据、操作日志、流程说明及人员签字确认等，以形成可追溯的技术研究档案。

(四) 严格遵守“净室设计”原则，对反向工程实施人员进行提前的背景排查

在反向工程中，芯片企业应当采取多重防范措施，确保研发人员没有接触或知晓他人的商业秘密信息。同时也要对研发人员的项目经历进行风险排查，确保研发人员不属于对相关商业秘密负有保密义务的人，尤其应当避免研发人员为商业秘密权利人的经营管理人员（如董事、监事、高管等），或者通过合同约定或者其他默示保密义务的保密人员的情况。为此，企业应建立健全的研发隔离机制，制定详细的团队分工，并形成完备的开发过程记录。

(五) 避免对受保护的布图设计中具有独创性部分的简单复制

在涉及布图设计的反向工程和商业利用时，芯片企业应当对所获取的布图信息进行谨慎处理，避免将原有设计直接复制或仅作形式上的改动就投入商业利用。企业在通过反向工程获取布图信息后，应在理解原理和技术特征的基础上进行设计和再创造，确保最终成果能够体现独创性和技术价值。

[注] 

[1]苏州赛某电子科技有限公司诉深圳裕某科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，最高人民法院第（2019）最高法知民终490号民事判决书。

[2]钜泉光电科技（上海）股份有限公司和上海雅创电子零件有限公司、深圳市锐能微科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，上海市第一中级人民法院（2010）沪一中民五（知）初字第51号民事判决书。

[3]深圳市某电子股份有限公司诉深圳市某科技有限公司、无锡某电子有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，最高人民法院（2021）最高法知民终1313号民事判决书。

[4]钜泉光电科技（上海）股份有限公司和上海雅创电子零件有限公司、深圳市锐能微科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，上海市第一中级人民法（2010）沪一中民五（知）初字第51号民事判决书。

[5]深圳某公司诉南京某公司、锦某公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，最高人民法院（2021）最高法民申3269号民事判决书。

[6]南京微盟电子有限公司与泉芯电子技术（深圳）有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，广东省高级人民法院（2014）粤高法民三终字第1231号民事判决书。

[7]钜泉光电科技（上海）股份有限公司和上海雅创电子零件有限公司、深圳市锐能微科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案，上海市第一中级人民法（2010）沪一中民五（知）初字第51号民事判决书。