当地时间2024年9月5日，美国商务部产业与安全局（BIS）发布修订美国《出口管理条例》（EAR）的拟议规则，拟新增量子计算、半导体制造设备、环绕栅场效应晶体管(GAAFET)技术及增材制造设备（3D打印）相关物项的管控要求，并征求公众意见，公众意见期为60天。本次拟议规则的修订主要包括以下几个方面：

* 一、新增量子计算相关物项并实施新的许可要求和年度报告要求；

* 二、增加2个先进半导体制造设备相关物项（3B001.q和3B903）并修订先进半导体制造设备相关物项的许可要求；

* 三、新增环绕栅场效应晶体管(GAAFET)技术并实施新的许可要求和年度报告要求；

* 四、新增增材制造设备（3D打印）和相关软件、技术；

* 五、新增IEC（Implemented Export Controls）许可例外；

* 六、在国家安全（National Security，NS）和区域稳定（Regional Stability，RS）的管控原因下新增两项许可要求。

具体规定如下：

一、量子计算物项

（一）新增列管物项及对应“ECCN” 编码

ECCN 3A901: 未在3A001列明的电子物项；

ECCN 3A904: 低温冷却系统和部件；

ECCN 3B904: 低温晶圆探测设备；

ECCN 3C907：外延材料包括具有至少一个外延生长层的“衬底”以及其他指定材料；

ECCN 3C908：含其他指定材料的硅或锗的氟化物、氢化物、氯化物；

ECCN 3C909: 硅、氧化硅、锗或氧化锗，包含任何其他指定材料；

ECCN 4A906: 量子计算机及其相关的“电子组件”和“部件”。

（二）许可要求

出于国家安全（NS）和区域稳定（RS）原因，对全球任何目的地国家/地区出口或再出口受 EAR 管辖并属于以上ECCN编码的物项时，均需要申请许可证。对特定物项的视同出口和视同再出口行为授权以特定的排除（exclusion）。（详见下文）

（三）通用许可证6号（General License in General Order No. 6）

新设通用许可证6号，以授权向特定的最新国籍国或永久居住国是D:1或D:5国家组的外国人（非为美国出口管制黑名单主体）视同出口和视同再出口特定量子计算软件和技术的行为。

（四）年度报告要求

针对上述通用许可证6号，BIS设立了年度报告要求，以便美国政府出于国家安全原因进行监督。

（五）许可例外

新设IEC许可例外适用于上述物项向特定国别的出口。

二、先进半导体制造设备

（一）新增两项半导体设备相关物项

新增3B001.q：未被3B001.g列明的为集成电路设计的“EUV”掩模和“EUV” 标线，且具有3B001.j列明的掩膜“基板胚料”[1]。

新增3B903: 为半导体器件或集成电路成像而设计的扫描电子显微镜 (Scanning Electron Microscope，SEM) 设备[2],具体见下表：

点击可查看大图

（二）修订许可证要求

针对3B001.c.1.a各向同性干式蚀刻设备, c.1.c 各向异性干式蚀刻设备和3B001.q (未被3B001.g列明的为集成电路设计的“EUV”掩模和“EUV”线, 3B001.j列明的有一个掩模“衬底空白”)。

3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c,和3B001.q中指明的物项适用国家安全（NS）和区域稳定（RS）原因，对全球任何目的地国家/地区出口或再出口受 EAR 管辖并属于以上ECCN编码的物项时，均需要申请许可证。

（三）许可例外

* 取消对3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c和3B001.q的GBS(Shipments to Country Group B)许可例外。

* 新设IEC许可例外适用于上述物项向特定国别的出口。

三、环绕栅场效应晶体管(GAAFET)技术

（一）新增ECCN

ECCN 3E905: 控制GAAFET集成电路的开发或生产技术

（二）许可证要求

出于国家安全（NS）和区域稳定（RS）原因，对全球任何目的地国家/地区出口或再出口受 EAR 管辖并属于以上ECCN编码的物项时，均需要申请许可证。对特定物项的视同出口和视同再出口行为授权以特定的排除（exclusion）。

（三）通用许可证6号

新设通用许可证6号授权向A:5 或A:6国家组的特定最终用户出口、再出口或境内转移上述物项的行为。

新设通用许可证6号以授权向特定的最新国籍国或永久居住国是D:1或D:5国家组的外国人（非为美国出口管制黑名单主体）视同出口和视同再出口上述物项的行为。

（四）年度报告要求

针对上述通用许可证6号，BIS设立了年度报告要求，以便美国政府出于国家安全原因进行监督。

（五）许可例外

新设IEC许可例外适用于上述物项向特定国别的出口。

四、增材制造设备（additive manufacturing equipment）

新增ECCN 2B910:增材制造设备被用于生产金属或金属合金组件；

新增ECCN 2D910:未在其他地方列明，“专门设计”或修改用于“开发”或“生产”ECCN 2B910中所列明的设备的软件；

新增ECCN 2E910:未在其他地方列明，“专门设计”或修改用于“开发”或“生产”ECCN 2B910中所列明的设备的技术；

对上述3个物项基于国家安全（NS）和区域稳定（RS）实施许可证要求，对全球任何目的地国家/地区出口或再出口受 EAR 管辖并属于以上ECCN编码的物项时，均需要申请许可证。同时，新设IEC许可例外适用于上述物项向特定国别的出口。

五、拟新增IEC许可例外

BIS在EAR第740.24节新增IEC许可例外（Implemented Export Controls），授权特定物项出口、再出口或境内转移至实施同样出口管制标准的国家。适用该IEC许可例外，需要同时属于以下国家范围和物项范围：

1、国家范围

具体适用的国家需要经美国联邦登记局局长（the Director of the Federal Register）批准。这些国家均为采取与美国同等出口管制政策的美国盟友国。

2、物项范围

包括属于以下ECCNs的物项: 2B910, 2D910, 2E903, 2E910, 3A901, 3A904, 3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q, 3B903, 3B904, 3C907, 3C908, 3C909, 3D001 (针对3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q), 3D002 (针对3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c), 3D901, 3D907, 3E001 (针对 3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q), 3E901, 3E905, 4A906, 4D906, and 4E906.以及CCL清单中IEC一栏显示“是”（“IEC: Yes”）的物项。

需要注意的是，BIS将根据实际情况对上述国家范围和物项范围进行修订和公示。

六、拟在国家安全（NS）和区域稳定（RS）的管控原因下新增两项许可要求

1、许可证要求

出于国家安全（NS）和区域稳定（RS）原因，向全球任何国家/地区出口或再出口受 EAR 管辖并具有特定ECCN编码的物项时（CCL清单中Country Chart部分对应标注了Worldwide control的物项），均需要申请许可。

2、视同出口和视同再出口的排除适用

上述许可证要求不适用于与下述A段和B段一致的“技术”或“软件”的视同出口或视同再出口行为。

A. 祖父条款[3]的排除

在正式在联邦公告上公布规则之前，视同出口或视同再出口某一技术或软件（包括其未来更新或修订版本）至某一雇员（employees）或承包方（contractors）无需因NS原因申请许可证。但以下情况除外，即如果该外国人最新的国籍国或永久居住国是D:1或D:5国家组的国家，并且涉及ECCN为 3E905的技术，此种情况下仍需要申请许可证。

B. 视同出口和视同再出口的排除情形

* i. 有限排除（limited exclusion）

如果某一外国人最新国籍国或永久居住国是D:1或D:5国家组的国家，且涉及ECCNs 2D910; 2E910; 3D001 (ECCN 3B001.q中“EUV”掩模和光栅的“软件”); 3D901 (参阅ECCNs 3A901.b和3B904查看量子物项的“软件”，参阅ECCN 3B903扫描电子显微镜); 3D907 “软件”被设计用于提取“GDSII”或等效数据; 3E001 (ECCN 3B001.q中“EUV”掩模和光栅的“技术”); 和3E901 (针对3A901, 3A904, 3B904, 3C907, 3C908和3C909中的量子物项“技术”，以及针对3B903中的扫描电子显微镜); 3E905 (“技术”根据通用技术说明用于“开发”或“生产”集成电路或器件，使用“GAAFET”结构); 和“技术”(针对ECCNs 4D906 or 4E906中的量子物项)时，仍受到NS原因的管控，需要申请许可证。

* ii. 完全排除（full exclusion）

对于ECCNs为3D001、3D002和3E001中针对各向异性干法等离子体蚀刻设备以及3B001.c.1.a及c.1.c各向同性干法蚀刻设备的“技术”及“软件”，上述许可证要求完全排除视同出口或视同再出口无需申请许可的情形[4]。

3、许可审查政策

1）针对A1、A5、A6国家组的国家，许可审查政策为推定批准；

2）针对D1、D5国家组的国家，许可审查政策为推定拒绝；

3）针对其余国家，许可审查政策为逐案审查。

七、合规建议

持续关注该规则进展。本次的拟议规则暂未生效，仍在公众意见收集阶段。我们建议相关企业动态追踪和关注该拟议规则，同时研究现有文本，提前做好业务调整。

开展供应链筛查和合规管理工作。建议相关企业根据最新的物项技术参数排查产品和供应链设备、软件和技术，对上下游企业、产品最终用途、产品涉美国受管制技术、软件、设备的情况，全面筛查和识别供应链中可能存在的风险。

[注] 

[1] q. “EUV” masks and “EUV” reticles, designed for integrated circuits, not specified by 3B001.g, and having a mask “substrate blank” specified by 3B001.j;

[2] Scanning Electron Microscope (SEM) equipment designed for imaging semiconductor devices or integrated circuits

[3] “祖父条款”是一种规定，指某些人或者某些实体已经按照过去的规定，从事一些活动，新的法规可以免除这些人或者这些实体的义务，不受新法律法规的约束，继续依照原有的规定执行。

[4] There is a full deemed export or deemed reexport exclusion from the license requirement in this paragraph (a)(5)(i) for “technology” and “software” in ECCNs 3D001, 3D002, and 3E001 for anisotropic dry plasma etch equipment and isotropic dry etch equipment in 3B001.c.1.a and c.1.c.