根据《条例》第八条、第十八条，集成电路布图设计经国知局登记后方可受到保护，而国知局仅对登记申请做形式审查。因此，集成电路布图设计专有权的保护条件可理解为如下两个层次：其一为形式要件，即通过形式审查后登记产生专有权的条件；其二为实质要件，即登记产生的专有权具有实质效力的条件。[2]

1. 积极条件：提交符合法定要求的材料

根据《条例》第十六条，申请集成电路布图设计的，申请人应当提交申请表、复制件或者图样；如果该布图设计已投入商业利用的，还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。

在《条例》基础上，《细则》第二章对申请材料提出了进一步要求。其中，《细则》要求提交的纸件至少应放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上；申请人也可在提交复制件或图样纸件的同时，提交包含布图设计全部信息的电子版本；另外，复制件或图样还可以附具简单的文字说明，对布图设计的结构、技术、功能和其他事项加以说明。

2. 消极条件：登记申请未超出法定时限

根据《条例》第十七条，布图设计应当自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内提出登记申请，否则国知局将不再予以登记，申请人只能通过专利等其他途径寻求保护。[3]如果申请的布图设计通过国知局形式审查的，布图设计专有权自申请日起生效，且保护期为10年，起算日为登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日。

1. 布图设计应当充分公开

充分公开虽然不是明文要求，但从制度目的、侵权判断的角度可以推知，充分公开系布图设计专有权的实质条件。

一方面，与专利法相类似，布图设计专有权的制度逻辑也是以技术公开作为专有权保护的对价，以有期限的保护换取社会公众对先进技术的接触。因此，如果申请人不充分公开其布图设计即可获得专有权保护，将有违制度逻辑。

另一方面，布图设计的侵权判断需要比对被控侵权产品的布图设计与申请登记的布图设计。若申请登记的布图设计没有充分公开，那么侵权判断将失去比对基础，权利人也不可能得到任何保护。例如，有法院就认为，"原告提交的布图设计图样只有两层金属层图样……无法确定包含有源元件在内的各种元件与互连线路的具体内容"，因而不予支持原告诉请。[4]

当然，需要注意的是，充分公开仅意味着公开的程度应明确具体，而不要求公开的范围为全部公开，《细则》第十五条即允许在申请日前没有投入商业利用的布图设计在申请时包含部分保密信息。

另如前述，《细则》要求申请人提交的纸件至少应放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上，这显然是为充分公开而做出的规定。不过，考虑到集成电路的布图设计日益复杂精细，申请者提交的纸件不能仅以规定的20倍为限，而应尽量充分公开其申请保护的所有独创性部分。

2. 布图设计应当具备独创性

（1）"独"：是创作者的智力劳动成果

"独创性"的"独"，要求布图设计应当是由创作者自己的研发成果，而非对他人成果的复制或者抄袭。与《著作权法》相似，《条例》并不排斥独立创作的但雷同的布图设计。对于自己独立创作的布图设计，即便与他人的布图设计碰巧相同，创作者也可自由使用。[5]

（2）"创"：不是公认的常规设计

"独创性"的"创"，要求创作时，布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是"公认的常规设计"。根据《指南》，判断是否为"公认的常规设计"的"布图设计创作者和集成电路制造者"，应当知晓现有常规设计规则和制造工艺，知晓在受保护的布图设计创作时所有的公认的常规设计[6]，类似于专利法中的"本领域技术人员"。

一个集成电路中往往包括成千上万个电路元件和互连线路，不可能其中的所有三维配置都受保护。因此，在侵权比对前，首先应当界定专有权的保护范围，即权利人对于布图设计的哪些三维配置享有专有权，以及专有权的权利边界止于何处的问题。

《指南》公布前，并没有明文规定应如何确定专有权保护范围，所以司法实践中，法院曾有过不同观点，其间的差异和变化颇可见得集成电路布图设计法律保护制度的特点。

1. 以登记时提交的复制件、图样或样品来确定保护范围

深圳中院在一起案件一审中认为，"布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准。权利人所提交的布图设计的复制件或者图样，或者提交的集成电路样品均用于确定这种三维配置。"[7]最终，该院调取了涉案集成电路申请时提交的样品，以此作为侵权比对对象。可见，该观点认为，布图设计的复制件、图样或者样品，均可单独用以确定专有权的保护范围。

2. 以登记时提交的复制件、图样来确定保护范围

南京中院有案例认为："布图设计的内容应当以提交在国家知识产权局申请文件中并经公告公示的布图设计复制件或者图样确定，布图设计专有权的保护范围也应当以此确定。在复制件或者图样的电子版本、集成电路样品中包含了与复制件或者图样所确定的布图设计时，其一致的布图设计部分也可以用来确定保护范围。"[8]这一意见也得到江苏高院及最高法院的支持。

此外，深圳中院也认为，"当发生申请人备案的电子版、芯片样品载体所反映的布图设计与备案的复制件或图样载体所反映的布图设计不同或不完全相同，应以备案的复制件或图样载体所反映的布图设计作为权利保护范围的依据。"[9]

该观点认为，备案的布图设计复制件、图样是确定保护范围的根本依据，而复制件或图样的电子版本，以及样品等，只有在其包含的布图设计与复制件、图样中的一致时，才能辅助确定保护范围。

3. 以芯片生产过程中的掩模版来确定保护范围

在产业实践中，集成电路的制造是以布图设计的图样为依据，制备相应的光刻掩模版，再依据光刻掩模版的图样按顺序对基片进行一系列技术处理，制造出符合图样定义的电子元件、连线，并形成电路的。因此，掩模版作为集成电路设计与制造环节的中间产品，在某些案例中被作为确定布图设计保护范围的依据。

例如，南京中院在另一起案件一审中认为，"光刻掩模版通过一定技术手段实现了布图设计图样图形的转移，用于制造管芯，其固定了管芯及封装后的集成电路的布图设计。"[10]因此，该院调取了用于生产涉案管芯的光刻掩模版作为侵权比对对象。

无独有偶，三年后同样是南京中院的另一案件中，在认可以布图设计复制件或图样确定保护范围的情况下，该院指出"布图设计可以由图样确定并体现，也可以由相应的光刻掩模版体现。"[11]因此，该观点实质上是在认同以布图设计的复制件、图样确定保护范围的前提下，以光刻掩模版作为图样的载体，进而进行侵权比对。

综上，第一种观点与第二种观点明显龃龉，而最高法院态度鲜明地支持了第二种观点。理由主要为：（1）复制件或图样是所有布图设计登记时必须提交的材料，但只有申请时已投入商业利用的布图设计才需提交样品；（2）样品虽然是布图设计的载体，但公众无法直接通过样品获悉布图设计的具体内容，若以样品确定保护范围，同样有违"以公开换保护"的机制。[12]

对于第三种观点，笔者以为，虽然芯片制造过程中，光刻掩模版需重现交付制造的布图设计的图样，但提交登记的复制件、图样与实际制造过程中的图样未必完全一致，这一事实仍需证明或查实：如果不一致，那么第三种观点无疑有失偏颇。例如，权利人的布图设计若未充分公开，而法院径直以光刻掩模版作为比对基础，有为当事人扩大保护范围之嫌；如果是一致的，那么第三种观点实质上即是为便于开展鉴定等调查而对第二种观点进行改良的结果。

在法院观点逐渐统一的过程中，国知局也通过《指南》对保护范围的确定做出指引。根据《指南》第63-64页：（1）布图设计专有权的保护范围应以在申请文件中提交的、且经公告公示的布图设计的复制件或图样确定；（2）如果复制件或图样尚不足以完整、清晰地反映布图设计的内容，那么可以对样品进行反向剖析，在确认与复制件或图样一致的情况下，辅助确认保护范围，这与前述第二种司法观点是一致的；[13]（3）权利人提交申请时，如果对布图设计的独创性进行过具体说明，则相应的说明应视为权利人在具体案件中主张的保护范围。

知识产权的本质是禁止权，即禁止他人对某些客体进行某些行为的权利。在《条例》公布前，虽然我国没有集成电路布图设计专有权，但企业均能自由进行集成电路的设计、制造、进口、销售；在《条例》公布后，集成电路布图设计专有权的权利人始得禁止其他企业对特定客体进行特定行为，而特定客体及特定行为，即是集成电路布图设计专有权的权利内容，具体有复制权和商业利用权。

1. 复制权

根据《条例》第三十条第一款，"复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的"，属于侵权行为。结合《条例》第二条第四款，"复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为"。因此，复制权控制的行为是"重复制作"，客体是"布图设计"或"含有该布图设计的集成电路"。

2. 商业利用权

根据《条例》第三十条第二款，"为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的"，也属于侵权行为。

可见，商业利用权控制的行为是"为商业目的"而"进口、销售或者以其他方式提供"。所以，如果是为个人目的或为评价、分析、研究、教学等非商业目的的行为，不构成商业利用权侵权。商业利用权控制的客体是"布图设计"、"含有该布图设计的集成电路"或"含有该集成电路的物品"。相较于复制权，商业利用权的权利范围显然更大。如果某电器使用了含有受保护的布图设计的集成电路，无论受保护的布图设计对电器整体而言的比例高低或重要性几何，该电器也在商业利用权的禁止之列。

对于侵权救济而言，权利人可能主要关注侵权救济的途径及侵权判断的比对。

根据《条例》第三十一条，布图设计的侵权纠纷可以选择向法院起诉和请求国知局处理的方式加以解决。但需注意的是，国知局仅有权处理布图设计的侵权纠纷，对于权属纠纷等，当事人仍只能向法院起诉。例如，在国知局处理的首起集成电路布图设计侵权纠纷中，被请求人即对涉案布图设计的权属提出质疑，但因为行政执法委员会无权处理权属争议，所以被请求人只能向法院另行起诉。[14]

侵权比对的最小单位就是专有权保护的最小单位。根据《条例》第三十条第一款及《指南》第65页，即使是经过登记、已产生布图设计专有权的集成电路布图设计，其受保护的部分也仅限于其中具有独创性的部分，这即是专有权保护的最小范围。

"具有独创性的部分"指的并不是个别元件或连接，而应当是相对独立的模块，即具备电子功能的相对独立性、物理边界的相对独立性。例如，触发器、计数器、放大器、振荡器等模块，因其具有完整的电路功能，可认定为独创性区域；但是像晶体管、电容等不能构成独立功能的电路，就不能构成独创性区域。[15]

在布图设计的侵权诉讼中，法院首要确定的往往是独创性。但具备独创性属于无法直接证明的消极事实。因此在司法实践中，如果权利人已申请获得了布图设计专有权，则法院将推定涉案布图设计具有独创性，无独创性的举证责任由被告承担。对此，具有代表性的司法观点认为，"积极事实的主张者若想否定消极事实主张者的主张，只需简单举出反证即可。如果被诉侵权人不能证明其主张，就要承担对其不利的法律后果。"[16]

与著作权法的侵权判断相类似的，布图设计专有权的侵权判断也遵循"接触+实质性相似+无免责事由"的思路。

1. 有接触可能性

接触可能性的认定，要求被告的布图设计晚于原告，否则如果被告的布图设计专有权成立在先，即便二者的布图设计完全相同，被告也不可能构成侵权。[17]

在此前提下，接触可能性的认定还需要区分涉案的集成电路布图设计是否已经投入商业利用。如果涉案布图设计已投入商业利用，则在后的被告将被推定有接触权利人在先的布图设计的可能性；如果涉案布图设计未投入商业利用，则权利人应当举证，证明被告有可能接触到在先未投入商业利用的布图设计，例如，被告曾向国知局查阅过该布图设计的纸件等。

2. 实质性相似

因为集成电路布图设计的内容微缩且技术性强，法院在进行实质性相似的比对时，往往需要依靠反向工程等手段进行技术鉴定。司法实践中，该技术鉴定一般是为解决如下两个问题：（1）是否具有独创性；（2）是否构成实质性相似。如前所述，虽然布图设计独创性作为消极事实，应由被告举证加以反驳，但因为独创性是实质性相似鉴定的逻辑前提，而且比对前也需要筛选掉无独创性的内容，所以鉴定机构也多会先鉴定独创性之有无。而鉴定意见虽然是法院查明侵权事实的重要参考，但并非是唯一依据。法院会结合鉴定意见查明的技术情况，从法律角度做出侵权与否的判断。

3. 无免责事由

所谓免责事由，即行为人在各项侵权要件成立后，因为符合特定规定而无需承担全部或部分侵权责任的特殊情形。根据《条例》相关规定，集成电路布图设计专有权侵权常见的免责事由主要有如下几项。

（1）合理使用抗辩

根据《条例》第二十三条，有三类情形构成合理使用，可简称为为个人目的的复制、反向工程再创作、独立创作。

如果为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学等目的而对受保护的布图设计进行商业利用，行为人将不构成侵权，因为该行为并不受商业利用权的规制。有所区别的是，复制权并未限定行为人的目的要件，为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学等目的的复制行为本应在权利人的控制范围内，行为人只能基于《条例》第二十三条第一项免除侵权责任。

根据《条例》第二十三条第二项，在前述评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的构成合理使用。这一规定认可行为人在反向工程后再创作行为的合法性。对集成电路行业而言，反向工程至少有两个作用。一是推动技术发展：法律允许的反向工程，是在分析和研究的基础上，创作出更先进的集成电路，反向工程后的简单抄袭不足以构成合理使用，行为人仍应承担侵权责任。二是促进市场竞争：通过反向工程，可以创作出功能性和兼容性相近的产品，推动良性的市场竞争。

而与著作权相类似，独立创作的布图设计即便与他人的相同，仍得以自由复制或商业利用。但行为人如在侵权诉讼中援引本项合理使用，其应当提供独立创作的相关证据，而不能仅进行简单抗辩。

（2）善意侵权抗辩

根据《条例》第三十三条，在获得含有受保护的布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。

从该抗辩的举证责任来看，应由原告证明被告的主观状态不属于善意，这是司法案例和《指南》的一致观点。[18]原因在于，"不知道且没有合理理由应当知道"的主观状态作为消极事实，同样难以自证；此外，原告对这一主观状态的反驳举证却具有现实可能性，例如布图设计的登记公告仅包括相关著录项目信息，并不公开布图设计的具体内容，原告可举示被告曾查阅过涉案布图设计，即可推翻其善意侵权的抗辩主张。当然，如果行为人知悉其产品中含有非法复制的布图设计的，其虽然仍可继续销售，但销售范围仅限于现有存货或此前的订货，而且还应向布图设计权利人支付合理的报酬。

（3）权利用尽抗辩

类似于专利法中的权利用尽原则，根据《条例》第二十四条，受保护的布图设计、含有布图设计的集成电路及含有集成电路的物品在合法投放市场后，他人可以自由进行商业利用，而不承担侵权责任。